IP-Coster | WO2025206969 | NANOLITHOGRAPHY SYSTEM BASED ON ELECTRIC CURRENT

Country	Stages	Total
China	Filing, Examination, Granting	2400
EPO	Filing, Examination, Granting	14769
Japan	Filing, Examination, Granting	2556
South Korea	Filing, Examination, Granting	2889
USA	Filing, Examination, Granting	6340

Abstract[English] The invention refers to a nanolithography system based on electric current that uses an array of electrically conductive sharp tips that emit electrons using the electric field emission phenomenon. The nanolithography system consists of the writing bloc (1), the XY translation bloc (6) of the substrate (7) in the horizontal plane, the substrate (7), the translation block (8) along the vertical Z direction normal to the substrate (7) plane, the vertical translation being made either for the substrate (7) or for the writing block (1), the voltage source (9) supplying an electric voltage between the tips array (2) and the substrate (7), the block (10) for reading the voltage between some of the tips of the tips array (2) and the substrate (7), the controller (11) for the management and monitoring of how all these blocks and voltage source (9) work, the computer (12) that, with the help of specific software packages, controls the overall and whole ensemble and allows editing of CAD models, conversion of CAD model formats and translation of the 2D patterns / 3D objects to be fabricated from their CAD format to the commands specific to each of the said blocks, the system containing also a fast feedback loop (22), a high precision electromechanical system (23) that rotates the tips array (2) around of at least one of the rotation axes that lies in the plane of the said tips array, the software package ensuring also the command of the light spatial modulator (3) and of the voltage source (9) according to the pattern that must de created onto substrate (7). The writing block (1) consists of the tips array (2), the spatial light modulator (3), the collimation optics (4) and the light source (5).[French] L'invention concerne un système de nanolithographie basé sur un courant électrique qui utilise un réseau de pointes effilées électroconductrices qui émettent des électrons à l'aide du phénomène d'émission de champ électrique. Le système de nanolithographie est constitué d'un bloc d'écriture (1), d'un bloc de translation XY (6) d'un substrat (7) dans le plan horizontal, du substrat (7), d'un bloc de translation (8) dans la direction verticale Z normale vers le plan du substrat (7), la translation verticale étant réalisée soit pour le substrat (7) soit pour le bloc d'écriture (1), d'une source de tension (9) fournissant une tension électrique entre le réseau de pointes (2) et le substrat (7), d'un bloc de lecture (10) de la tension entre certaines des pointes du réseau de pointes (2) et le substrat (7), d'un contrôleur (11) pour la gestion et la surveillance de la manière dont tous ces blocs et source de tension (9) fonctionnent, d'un ordinateur (12) qui, à l'aide de progiciels spécifiques, commande l'ensemble global et entier et permet l'édition de modèles CAO, la conversion de formats de modèle CAO et la translation des motifs 2D/objets 3D à fabriquer depuis leur format CAO vers les commandes propres à chacun desdits blocs, le système contenant également une boucle de rétroaction rapide (22), un système électromécanique de haute précision (23) qui fait tourner le réseau de pointes (2) autour d'au moins un des axes de rotation qui se trouve dans le plan dudit réseau de pointes, le progiciel assurant également la commande d'un modulateur spatial de lumière (3) et de la source de tension (9) selon le motif qui doit être créé sur le substrat (7). Le bloc d'écriture (1) est constitué du réseau de pointes (2), du modulateur spatial de lumière (3), d'un optique de collimation (4) et d'une source de lumière (5).

Total Number of Claims/PCT	*
Number of Independent Claims	*
Number of Priorities	*
Number of Multi-Dependent Claims	*
Number of Drawings	*
Pages for Publication	*
Number of Pages with Drawings	*
Pages of Specification	*
Sequence Listing	*
Number of Office Actions	*
International Search Report is established	*
International Searching Authority	EPO *
Recordal of a Change of the Applicant's Name/Address	Change of Applicant's Name and Address *
Type of Assignment	The Standard Agent's Assignment *
Applicant's Legal Status	Legal Entity *
Small Entity	*
Non-Commercial Organization	*
Micro Entity	*
Small Entity, USA	*
Micro Entity, USA	*
Entry into National Phase under	Chapter I *
Patent Delivery	Send the Letters Patent by Courier *
Translation

WO2025206969 - NANOLITHOGRAPHY SYSTEM BASED ON ELECTRIC CURRENT

Quotation for National Phase entry

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