IP-Coster | WO2025238498 | SOLID STATE NANOPORES FOR NANOPARTICLE SENSING

Country	Stages	Total
China	Filing, Examination, Granting	2265
EPO	Filing, Examination, Granting	11823
Japan	Filing, Examination, Granting	2371
South Korea	Filing, Examination, Granting	2511
USA	Filing, Examination, Granting	6340

Abstract[English] The invention provides a method of forming a coated nanopore in a silicon nitride membrane on a silica substrate, comprising (i)Depositing layers of SiNx on opposing surfaces of a sheet of a silica substrate to form opposed SiNx membranes; followed by steps (ii-a) and (iii-a), or (ii-b) and (iii-b): (ii-a) Removing a portion of one of the SiNx membranes and a portion of the silica substrate to form a cavity in the silica substrate which is open on one side and bounded by the opposed membrane of SiNx on the other; (iii-a) Forming a nanopore aperture through the opposed membrane of SiNx, in the region of the cavity to form a continuous channel; or (ii-b) Forming a nanopore aperture through one of the membranes of SiNx; (iii-b) Removing a portion of the other SiNx membrane and a portion of the silica substrate in the region of the nanopore aperture to form a cavity in the silica substrate in the form of a continuous channel; wherein steps (ii-a) and (iii-a) or (ii-b) and (iii-b) are followed by steps (iv) and (v): (iv) Forming a layer of SiO2 on exposed surfaces, including the surface of the nanopore aperture formed in step (iii) and the substrate surfaces; (v) Modifying the layer formed in (iv) by chemical or physical means. Chips comprising nanopores obtainable by this method, and uses in nanomedicine and resistive pulse sensing methods, are also provided.[French] L'invention concerne un procédé de formation d'un nanopore enrobé dans une membrane de nitrure de silicium sur un substrat de silice, comprenant (i) le dépôt de couches de SiNx sur des surfaces opposées d'une feuille d'un substrat de silice pour former des membranes SiNx opposées; suivi des étapes (ii-a) et (iii-a), ou (ii-b) et (iii-b) : (ii-a) retirer une partie de l'une des membranes SiNx et une partie du substrat de silice pour former une cavité dans le substrat de silice qui est ouverte sur un côté et délimitée par la membrane SiNx opposée sur l'autre; (iii-a) former une ouverture de nanopore dans la membrane SiNx opposée, dans la région de la cavité pour former un canal continu; ou (ii-b) former une ouverture de nanopore dan l'une des membranes SiNx; (iii-b) retirer une partie de l'autre membrane SiNx et une partie du substrat de silice dans la région de l'ouverture de nanopore pour former une cavité dans le substrat de silice sous la forme d'un canal continu; les étapes (ii-a) et (iii-a) ou (ii-b) et (iii-b) étant suivies par les étapes (iv) et (v) : (iv) former une couche de SiO2 sur des surfaces exposées, comprenant la surface de l'ouverture de nanopore formée à l'étape (iii) et les surfaces du substrat; (v) modifier la couche formée en (iv) par des moyens chimiques ou physiques. L'invention concerne également des puces comprenant des nanopores pouvant être obtenus par ce procédé, et leurs utilisations en nanomédecine et dans des procédés de détection d'impulsions résistives.

Total Number of Claims/PCT	*
Number of Independent Claims	*
Number of Priorities	*
Number of Multi-Dependent Claims	*
Number of Drawings	*
Pages for Publication	*
Number of Pages with Drawings	*
Pages of Specification	*
Sequence Listing	*
Number of Office Actions	*
International Search Report is established	*
International Searching Authority	EPO *
Recordal of a Change of the Applicant's Name/Address	Change of Applicant's Name and Address *
Type of Assignment	The Standard Agent's Assignment *
Applicant's Legal Status	Legal Entity *
Small Entity	*
Non-Commercial Organization	*
Micro Entity	*
Small Entity, USA	*
Micro Entity, USA	*
Entry into National Phase under	Chapter I *
Patent Delivery	Send the Letters Patent by Courier *
Translation

WO2025238498 - SOLID STATE NANOPORES FOR NANOPARTICLE SENSING

Quotation for National Phase entry

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