WO2023031819 - IN LINE WATER SCRUBBER SYSTEM FOR SEMICONDUCTOR PROCESSING
National phase entry:
Publication Number
WO/2023/031819
Publication Date
09.03.2023
International Application No.
PCT/IB2022/058168
International Filing Date
31.08.2022
Title **
[English]
IN LINE WATER SCRUBBER SYSTEM FOR SEMICONDUCTOR PROCESSING
[French]
SYSTÈME D'ÉPURATEUR D'EAU EN LIGNE POUR TRAITEMENT DE SEMI-CONDUCTEUR
Applicants **
EDWARDS VACUUM LLC
6416 Inducon Drive West
Sanborn, New York NY 14132, US
Inventors
MAHAWILI, Imad
Edwards Vacuum LLC
1830 Sierra Gardens Drive, STE 80
Roseville, California CA 95661, US
Priority Data
63/240,003
02.09.2021
US
Application details
| Total Number of Claims/PCT | * |
| Number of Independent Claims | * |
| Number of Priorities | * |
| Number of Multi-Dependent Claims | * |
| Number of Drawings | * |
| Pages for Publication | * |
| Number of Pages with Drawings | * |
| Pages of Specification | * |
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International Searching Authority |
EPO
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| Applicant's Legal Status |
Legal Entity
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| Entry into National Phase under |
Chapter I
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| Translation |
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Recalculate
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Quotation for National Phase entry
| Country | Stages | Total | |
|---|---|---|---|
| China | Filing | 1805 | |
| EPO | Filing, Examination | 13074 | |
| Japan | Filing | 591 | |
| South Korea | Filing | 575 | |
| USA | Filing, Examination | 9510 |
Total: 25555 USD
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Abstract[English]
A semiconductor processing system includes a vacuum pump having an inlet and an outlet, with the inlet of the vacuum pump configured to be in fluid communication with an outlet of a semiconductor reactor, and with the vacuum pump configured to output an exhaust of waste gases from the reactor at the outlet of the vacuum pump. The semiconductor processing system further includes a water scrubber system at the outlet of the vacuum pump, which has a vertical orientation relative to the pump and has an inlet and at least one mixing chamber. The inlet is in fluid communication with the outlet of the vacuum pump and the mixing chamber. The scrubber system is configured to maintain the temperature of exhaust at the output of the pump, while the exhaust is directed to the mixing chamber, and to inject water into the exhaust to remove water reactive products in the exhaust.[French]
L'invention concerne un système de traitement de semi-conducteur qui comprend une pompe à vide ayant une entrée et une sortie, l'entrée de la pompe à vide étant conçue pour être en communication fluidique avec une sortie d'un réacteur à semi-conducteur, et la pompe à vide étant conçue pour délivrer en sortie un échappement de gaz d'échappement provenant du réacteur à la sortie de la pompe à vide. Le système de traitement de semi-conducteur comprend en outre un système d'épuration d'eau à la sortie de la pompe à vide, qui a une orientation verticale par rapport à la pompe et a une entrée et au moins une chambre de mélange. L'entrée est en communication fluidique avec la sortie de la pompe à vide et de la chambre de mélange. Le système d'épurateur est conçu pour maintenir la température d'échappement au niveau de la sortie de la pompe, tandis que l'échappement est dirigé vers la chambre de mélange, et pour injecter de l'eau dans l'échappement afin d'éliminer les produits réactifs à l'eau dans l'échappement.