IP-Coster | WO2024256127 | SUBSTRATNAHE ECR-PLASMAQUELLE ZUR OBERFLÄCHENBEHANDLUNG

Country	Stages	Total
China	Filing	981
EPO	Filing, Examination	4588
Japan	Filing	590
South Korea	Filing	574
USA	Filing, Examination	2710

Abstract[German] Plasmaquelle (100) zur Oberflächenbehandlung von einem oder mehreren Substraten (116) umfassend: eine Vakuumkammer (108), eine Spannungsquelle (128), eine Materialeinspeisungsquelle (130), eine Magnetanordnung (122a, 122b) mit Magneten (112, 112a), wobei die Magnete (112, 112a), vorzugsweise Permanentmagnete (112a), so zueinander ausgerichtet sind, dass eine Elektronen-Zyklotron-Resonanz-Bedingung erfüllt ist, eine Apparatur (126) zum Erzeugen und Übertragen elektromagnetischer Wellen (120), wobei die Apparatur (126) einen Generator (104) zur Erzeugung von elektromagnetischen Wellen (120), eine Antenne (102) und einen Leiter (106) umfasst, und zumindest eine oder mehrere Substrathaltevorrichtungen zum Halten des einen oder der mehreren Substrate (116), wie beispielsweise ein Substratbaum, wobei an das eine oder die mehreren Substrate (116) eine Substratvorspannung mittels der Spannungsquelle (128) anlegbar ist, die ein- und ausschaltbar ist.[English] The invention relates to a plasma source (100) for the surface treatment of one or more substrates (116), comprising: a vacuum chamber (108); a voltage source (128); a material feed source (130); a magnet arrangement (122a, 122b) having magnets (112, 112a), wherein the magnets (112, 112a), preferably permanent magnets (112a), are oriented relative to one another such that an electron cyclotron resonance condition is satisfied; an apparatus (126) for generating and transmitting electromagnetic waves (120), the apparatus (126) comprising a generator (104) for generating electromagnetic waves (120), an antenna (102) and a conductor (106); and at least one or more substrate-holding devices for holding the one or more substrates (116), such as a substrate tree, wherein a substrate bias voltage can be applied to the one or more substrates (116) by means of the voltage source (128), which can be switched on and off.[French] L'invention concerne une source de plasma (100) destinée au traitement de surface d'un ou de plusieurs substrats (116). Ladite source de plasma comprend : une chambre à vide (108) ; une source de tension (128) ; une source d'alimentation en matériau (130) ; un agencement d'aimants (122a, 122b) comportant des aimants (112, 112a), de préférence des aimants permanents (112a), qui sont orientés les uns par rapport aux autres de telle sorte qu'une condition de résonance cyclotron électronique est satisfaite ; un appareil (126) de génération et de transmission des ondes électromagnétiques (120), comprenant un générateur (104) pour générer des ondes électromagnétiques (120), une antenne (102) et un conducteur (106) ; et au moins un ou plusieurs dispositifs de maintien de substrat pour maintenir le ou les substrats (116), tels qu'un arbre de substrat, une tension de polarisation de substrat pouvant être appliquée au ou aux substrats (116) au moyen de la source de tension (128), qui peut être allumée et éteinte.

Total Number of Claims/PCT	*
Number of Independent Claims	*
Number of Priorities	*
Number of Multi-Dependent Claims	*
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Pages for Publication	*
Number of Pages with Drawings	*
Pages of Specification	*
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International Search Report is established	*
International Searching Authority	EPO *
Applicant's Legal Status	Legal Entity *
Small Entity	*
Non-Commercial Organization	*
Small Entity, USA	*
Micro Entity, USA	*
Entry into National Phase under	Chapter I *
Translation

WO2024256127 - SUBSTRATNAHE ECR-PLASMAQUELLE ZUR OBERFLÄCHENBEHANDLUNG

Quotation for National Phase entry