WO2023198381 - METHODS OF METROLOGY AND ASSOCIATED DEVICES
National phase entry:
Publication Number
WO/2023/198381
Publication Date
19.10.2023
International Application No.
PCT/EP2023/056410
International Filing Date
14.03.2023
Title **
[English]
METHODS OF METROLOGY AND ASSOCIATED DEVICES
[French]
PROCÉDÉS DE MÉTROLOGIE ET DISPOSITIFS ASSOCIÉS
Applicants **
ASML NETHERLANDS B.V.
Corporate Intellectual Property
P.O. Box 324
5500 AH Veldhoven, NL
Inventors
BATISTAKIS, Chrysostomos
Corporate Intellectual Property
P.O. Box 324
5500 AH Veldhoven, NL
WERKMAN, Roy
Corporate Intellectual Property
P.O. Box 324
5500 AH Veldhoven, NL
PISARENCO, Maxim
Corporate Intellectual Property
P.O. Box 324
5500 AH Veldhoven, NL
VENUGOPALAN, Syam Parayil
Corporate Intellecutal Property
P.O. Box 324
5500 AH Veldhoven, NL
Priority Data
22168324.6
14.04.2022
EP
Application details
| Total Number of Claims/PCT | * |
| Number of Independent Claims | * |
| Number of Priorities | * |
| Number of Multi-Dependent Claims | * |
| Number of Drawings | * |
| Pages for Publication | * |
| Number of Pages with Drawings | * |
| Pages of Specification | * |
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International Searching Authority |
EPO
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| Applicant's Legal Status |
Legal Entity
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| Entry into National Phase under |
Chapter I
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| Translation |
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Recalculate
* The data is based on automatic recognition. Please verify and amend if necessary.
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Quotation for National Phase entry
| Country | Stages | Total | |
|---|---|---|---|
| China | Filing | 1123 | |
| EPO | Filing, Examination | 4675 | |
| Japan | Filing | 594 | |
| South Korea | Filing | 575 | |
| USA | Filing, Examination | 2710 |
Total: 9677 USD
The term for entry into the National Phase has expired. This quotation is for informational purposes only
Abstract[English]
Disclosed is a method of inferring second metrology data relating to patterned substrate on which patterns have been exposed and on which processing step has been performed, from first metrology data measured on the patterned substrate prior to performance of said processing step. The method comprises obtaining a model comprising first model component. The first model component comprises a machine learning model component having been trained to map said first metrology data to said second metrology data, said first model component further comprising a physics-based input channel for receiving physics-based input data. Second metrology data is inferred from said first metrology data using said first model component as biased by said physics-based input data on said physics-based input channel.[French]
L'invention concerne un procédé permettant de déduire des secondes données de métrologie concernant un substrat à motifs sur lequel des motifs ont été exposés et sur lequel une étape de traitement a été effectuée, et ce à partir de premières données de métrologie mesurées sur le substrat à motifs avant la réalisation de ladite étape de traitement. Le procédé comprend l'obtention d'un modèle qui comprend un premier composant de modèle. Le premier composant de modèle comprend un composant de modèle d'apprentissage machine ayant été entraîné pour mapper lesdites premières données de métrologie auxdites secondes données de métrologie, ledit premier composant de modèle comprenant en outre un canal d'entrée basé sur la physique servant à recevoir des données d'entrée basées sur la physique. Des secondes données de métrologie sont déduites à partir desdites premières données de métrologie en utilisant ledit premier composant de modèle tel qu'orienté par lesdites données d'entrée basées sur la physique dans ledit canal d'entrée basé sur la physique.