WO2023051939 - METHOD FOR CHARACTERIZING THE SURFACE SHAPE OF AN OPTICAL ELEMENT, AND INTERFEROMETRIC TEST ARRANGEMENT
National phase entry is expected:
Publication Number
WO/2023/051939
Publication Date
06.04.2023
International Application No.
PCT/EP2021/077184
International Filing Date
01.10.2021
Title **
[English]
METHOD FOR CHARACTERIZING THE SURFACE SHAPE OF AN OPTICAL ELEMENT, AND INTERFEROMETRIC TEST ARRANGEMENT
[French]
PROCÉDÉ DE CARACTÉRISATION DE LA FORME DE SURFACE D'UN ÉLÉMENT OPTIQUE ET DISPOSITIF DE TEST INTERFÉROMÉTRIQUE
Applicants **
CARL ZEISS SMT GMBH
Rudolf-Eber-Strasse 2
73447 Oberkochen, DE
Inventors
KRONENBERG, Michal
Curfessstrasse 33
73430 Aalen, DE
DREHER, Matthias
Am Ahornrain 3
73447 Oberkochen, DE
Application details
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International Searching Authority |
EPO
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Chapter I
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Quotation for National Phase entry
| Country | Stages | Total | |
|---|---|---|---|
| China | Filing | 975 | |
| EPO | Filing, Examination | 4562 | |
| Japan | Filing | 588 | |
| South Korea | Filing | 482 | |
| USA | Filing, Examination | 2710 |
Total: 9317 USD
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Abstract[English]
The invention relates to a method for characterizing the surface shape of an optical element, as well as an interferometric test arrangement (100) comprising an illumination system (110) and an interferometer system (120). In a method according to the invention, a plurality of frames are recorded by an interferometer camera (127) in said interferometer system (120) in at least one measurement block, wherein for each of said frames a test wave reflected at the optical element (123) to be characterized is caused to be superimposed with a reference wave not reflected at the optical element (123), wherein during said at least one measurement block a phase difference between the test wave and the reference wave is successively modified when going from one frame to the next frame of the respective measurement block; and wherein a measurement setting of said interferometric test arrangement (100) is modified between at least two successive frames of the respective measurement block.[French]
L'invention se rapporte à un procédé de caractérisation de la forme de surface d'un élément optique, ainsi qu'à un dispositif de test interférométrique (100) comprenant un système d'éclairage (110) et un système interférométrique (120). Dans un procédé selon l'invention, une pluralité de trames sont enregistrées par une caméra interférométrique (127) dans ledit système interférométrique (120) dans au moins un bloc de mesure. Pour chacune desdites trames, une onde de test réfléchie au niveau de l'élément optique (123) à caractériser est amenée à être superposée à une onde de référence non réfléchie au niveau de l'élément optique (123), pendant ledit au moins un bloc de mesure, une différence de phase entre l'onde de test et l'onde de référence est successivement modifiée lors du passage d'une trame à la trame suivante du bloc de mesure respectif ; et un réglage de mesure dudit dispositif de test interférométrique (100) est modifié entre au moins deux trames successives du bloc de mesure respectif.