WO2026064947 - ARRAY SUBSTRATE AND DISPLAY APPARATUS
National phase entry is expected:
Publication Number
WO/2026/064947
Publication Date
02.04.2026
International Application No.
PCT/CN2024/120902
International Filing Date
25.09.2024
Title **
[English]
ARRAY SUBSTRATE AND DISPLAY APPARATUS
[French]
SUBSTRAT DE RÉSEAU ET APPAREIL D'AFFICHAGE
Applicants **
BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD.
Inventors
ZHANG, Shunhang
ZHANG, Zhenyu
YU, Lianfu
ZHANG, Zhen
LI, Peirou
IM, Yunsik
LIU, Dongni
FENG, Xuan
XUAN, Minghua
ZHENG, Haoliang
Application details
| Total Number of Claims/PCT | * |
| Number of Independent Claims | * |
| Number of Priorities | * |
| Number of Multi-Dependent Claims | * |
| Number of Drawings | * |
| Pages for Publication | * |
| Number of Pages with Drawings | * |
| Pages of Specification | * |
| * | |
| Number of Office Actions | * |
| * | |
International Searching Authority |
CNIPA
* |
| Recordal of a Change of the Applicant's Name/Address |
Change of Applicant's Name and Address
* |
| Type of Assignment |
The Standard Agent's Assignment
* |
| Applicant's Legal Status |
Legal Entity
* |
| * | |
| * | |
| * | |
| * | |
| * | |
| Entry into National Phase under |
Chapter I
* |
| Patent Delivery |
Send the Letters Patent by Courier
* |
| Translation |
|
* The data is based on automatic recognition. Please verify and amend if necessary.
** IP-Coster compiles data from publicly available sources. If this data includes your personal information, you can contact us to request its removal.
Quotation for National Phase entry
| Country | Stages | Total | |
|---|---|---|---|
| China | Filing, Examination, Granting | 2475 | |
| EPO | Filing, Examination, Granting | 17191 | |
| Japan | Filing, Examination, Granting | 2338 | |
| South Korea | Filing, Examination, Granting | 2443 | |
| USA | Filing, Examination, Granting | 5390 |
Total:
29,837
Contact Us
Abstract[English]
An array substrate includes N number of rows of subpixels; and 2M number of gate lines providing gate driving signals to a same row of subpixels. An orthographic projection of a first gate line to an M-th gate line on a base substrate is between an orthographic projection of first electrodes of an n-th row of subpixels on the base substrate and an orthographic projection of first electrodes of an (n-1) -th row of subpixels on the base substrate. An orthographic projection of a (M+1) -th gate line to a (2M) -th gate line on the base substrate is between the orthographic projection of the first electrodes of the n-th row of subpixels on the base substrate and an orthographic projection of first electrodes of an (n+1)-th row of subpixels on the base substrate. The 2M number of gate lines are configured to provide gate driving signals to the n-th row of subpixels.[French]
Un substrat de réseau comprend un nombre N de rangées de sous-pixels ; et un nombre 2M de lignes de grille fournissant des signaux d'attaque de grille à une même rangée de sous-pixels. Une projection orthographique d'une première ligne de grille sur une M-ième ligne de grille sur un substrat de base se trouve entre une projection orthographique de premières électrodes d'une n-ième rangée de sous-pixels sur le substrat de base et une projection orthographique de premières électrodes d'une (n-1)-ième rangée de sous-pixels sur le substrat de base. Une projection orthographique d'une (M+1)-ième ligne de grille sur une (2M)-ième ligne de grille sur le substrat de base se trouve entre la projection orthographique des premières électrodes de la n-ième rangée de sous-pixels sur le substrat de base et une projection orthographique de premières électrodes d'une (n+1)-ième rangée de sous-pixels sur le substrat de base. Les 2M lignes de grille sont configurées pour fournir des signaux d'attaque de grille à la n-ième rangée de sous-pixels.