IP-Coster | WO2026146369 | ETCHING METHOD AND ETCHED ARTICLE

Country	Stages	Total
China	Filing, Examination, Granting	2300
EPO	Filing, Examination, Granting	9718
Japan	Filing, Examination, Granting	2215
South Korea	Filing, Examination, Granting	2200
USA	Filing, Examination, Granting	4740

Abstract[English] Provided is an etching method that includes providing a metallic substrate (100) on which an etch-resistant material is arranged to mask the metallic substrate, through which etch- resistant material apertures (126) are defined. The etch-resistant material comprises a continuous region (128) that extends continuously between and surrounds the apertures. The etching method includes etching the metallic substrate, with the etching including delivering an etchant to the metallic substrate through the apertures so that discrete recessed regions in the metallic substrate are initially etched beneath the apertures. The etch-resistant material is resistant to the etchant. The etching is continued until at least some of the discrete recessed regions merge beneath the continuous region of the etch-resistant material so that the continuous region extends over a location of the metallic substrate located in-between the initially formed discrete recessed regions, at which location metallic material of the metallic substrate is removed when the discrete recessed regions merge to form one or more merged etched regions (130). The etching leaves behind a portion (132) of the metallic substrate, which portion of the metallic substrate still remains beneath the one or more merged etched regions. Also provided is a method of manufacturing a foil, comb or blade for an electric shaver, with the method comprising implementing the etching method. Further provided is an article obtainable by the etching method or the method of manufacturing the foil, comb or blade.[French] L'invention concerne un procédé de gravure qui comprend la fourniture d'un substrat métallique (100) sur lequel un matériau résistant à la gravure est agencé pour masquer le substrat métallique, à travers lequel des ouvertures de matériau résistant à la gravure (126) sont définies. Le matériau résistant à la gravure comprend une région continue (128) qui s'étend en continu entre et entoure les ouvertures. Le procédé de gravure comprend la gravure du substrat métallique, la gravure comprenant l'administration d'un agent de gravure au substrat métallique à travers les ouvertures de telle sorte que des régions évidées discrètes dans le substrat métallique sont initialement gravées sous les ouvertures. Le matériau résistant à la gravure est résistant à l'agent de gravure. La gravure est poursuivie jusqu'à ce qu'au moins certaines des régions évidées discrètes fusionnent sous la région continue du matériau résistant à la gravure de telle sorte que la région continue s'étend sur un emplacement du substrat métallique situé entre les régions évidées discrètes initialement formées, au niveau desquelles le matériau métallique de localisation du substrat métallique est retiré lorsque les régions évidées discrètes fusionnent pour former une ou plusieurs régions gravées fusionnées (130). La gravure sort derrière une partie (132) du substrat métallique, laquelle partie du substrat métallique reste toujours sous la ou les régions gravées fusionnées. L'invention concerne également un procédé de fabrication d'une feuille, d'un peigne ou d'une lame pour un rasoir électrique, le procédé comprenant la mise en œuvre du procédé de gravure. L'invention concerne en outre un article pouvant être obtenu par le procédé de gravure ou le procédé de fabrication de la feuille, du peigne ou de la lame.

Total Number of Claims/PCT	*
Number of Independent Claims	*
Number of Priorities	*
Number of Multi-Dependent Claims	*
Number of Drawings	*
Pages for Publication	*
Number of Pages with Drawings	*
Pages of Specification	*
Sequence Listing	*
Number of Office Actions	*
International Search Report is established	*
International Searching Authority	EPO *
Recordal of a Change of the Applicant's Name/Address	Change of Applicant's Name and Address *
Type of Assignment	The Standard Agent's Assignment *
Applicant's Legal Status	Legal Entity *
Small Entity	*
Non-Commercial Organization	*
Micro Entity	*
Small Entity, USA	*
Micro Entity, USA	*
Entry into National Phase under	Chapter I *
Patent Delivery	Send the Letters Patent by Courier *
译文

WO2026146369 - ETCHING METHOD AND ETCHED ARTICLE

Quotation for National Phase entry

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