WO2026009183 - AN X-RAY INSPECTION APPARATUS AND METHOD FOR SEMICONDUCTOR WAFERS AND AN X-RAY SHIELD FOR THE APPARATUS
National phase entry is expected:
Publication Number
WO/2026/009183
Publication Date
08.01.2026
International Application No.
PCT/IB2025/056753
International Filing Date
03.07.2025
Title **
[English]
AN X-RAY INSPECTION APPARATUS AND METHOD FOR SEMICONDUCTOR WAFERS AND AN X-RAY SHIELD FOR THE APPARATUS
[French]
APPAREIL ET PROCÉDÉ D'INSPECTION PAR RAYONS X POUR DES TRANCHES DE SEMI-CONDUCTEUR ET ÉCRAN DE PROTECTION CONTRE LES RAYONS X POUR L'APPAREIL
Applicants **
NORDSON CORPORATION
Inventors
PEECOCK, Benjamin
DONALDSON-STEWART, Kate Louise
EGAN, Christopher Kieran
Priority Data
2409727.1
04.07.2024
GB
2504166.6
21.03.2025
GB
Application details
| Total Number of Claims/PCT | * |
| Number of Independent Claims | * |
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International Searching Authority |
EPO
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Change of Applicant's Name and Address
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| Type of Assignment |
The Standard Agent's Assignment
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| Applicant's Legal Status |
Legal Entity
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| Entry into National Phase under |
Chapter I
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| Patent Delivery |
Send the Letters Patent by Courier
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| 译文 |
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Quotation for National Phase entry
| Country | Stages | Total | |
|---|---|---|---|
| China | Filing, Examination, Granting | 2500 | |
| EPO | Filing, Examination, Granting | 13654 | |
| Japan | Filing, Examination, Granting | 2462 | |
| South Korea | Filing, Examination, Granting | 2726 | |
| USA | Filing, Examination, Granting | 5740 |
Total:
27,082
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Abstract[English]
An x-ray shield for a semiconductor wafer in an x-ray inspection system, an x-ray inspection system, and a method of imaging a semiconductor wafer using x-rays. The x-ray shield comprises: a frame in the form of a plate, sheet or disc of material that is substantially x-ray transparent, the frame comprising one or more recesses; and an x-ray shielding material held within the one or more recesses. The frame comprises at least one alignment datum for allowing the x-ray shield to be oriented relative to a semiconductor wafer by an automated semiconductor wafer handing system. Customised x-ray shields can be made to correspond to particular semiconductor wafer designs so that components, such as high bandwidth memory (HBM) regions, can be protected from potential damage.[French]
L'invention concerne un écran de protection contre les rayons X pour une tranche de semi-conducteur dans un système d'inspection par rayons X, un système d'inspection par rayons X et un procédé d'imagerie d'une tranche de semi-conducteur à l'aide de rayons X. L'écran de protection contre les rayons X comprend : un cadre sous la forme d'une plaque, d'une feuille ou d'un disque de matériau qui est sensiblement transparent aux rayons X, le cadre comprenant un ou plusieurs évidements ; et un matériau de protection contre les rayons X maintenu à l'intérieur du ou des évidements. Le cadre comprend au moins une donnée d'alignement pour permettre à l'écran de protection contre les rayons X d'être orienté par rapport à une tranche de semi-conducteur par un système de manipulation de tranche de semi-conducteur automatisé. Des écrans personnalisés de protection contre les rayons X peuvent être amenés à correspondre à des conceptions particulières de tranches de semi-conducteur de telle sorte que des composants, tels que des régions de mémoire à grande largeur de bande (HBM), puissent être protégés contre des dommages potentiels.