WO2026046747 - NANOCHANNEL FUNNEL STRUCTURES AND FABRICATION METHODS
National phase entry is expected:
Publication Number
WO/2026/046747
Publication Date
05.03.2026
International Application No.
PCT/EP2025/073354
International Filing Date
14.08.2025
Title **
[English]
NANOCHANNEL FUNNEL STRUCTURES AND FABRICATION METHODS
[French]
STRUCTURES EN FORME D'ENTONNOIR À NANOCANAUX ET PROCÉDÉS DE FABRICATION
Applicants **
ROBERT BOSCH GMBH
Inventors
VUKASIN, Gabrielle
JOHNSON, Christopher
HINTZ, Nicole
HUEBNER, Martina
Priority Data
63/689628
30.08.2024
US
18/829,006
09.09.2024
US
Application details
| Total Number of Claims/PCT | * |
| Number of Independent Claims | * |
| Number of Priorities | * |
| Number of Multi-Dependent Claims | * |
| Number of Drawings | * |
| Pages for Publication | * |
| Number of Pages with Drawings | * |
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| Number of Office Actions | * |
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International Searching Authority |
EPO
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| Recordal of a Change of the Applicant's Name/Address |
Change of Applicant's Name and Address
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| Type of Assignment |
The Standard Agent's Assignment
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| Applicant's Legal Status |
Legal Entity
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| Entry into National Phase under |
Chapter I
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| Patent Delivery |
Send the Letters Patent by Courier
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| 译文 |
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Quotation for National Phase entry
| Country | Stages | Total | |
|---|---|---|---|
| China | Filing, Examination, Granting | 2340 | |
| EPO | Filing, Examination, Granting | 12725 | |
| Japan | Filing, Examination, Granting | 2433 | |
| South Korea | Filing, Examination, Granting | 2670 | |
| USA | Filing, Examination, Granting | 5540 |
Total:
25,708
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Abstract[English]
A method of fabricating a nanochannel including a funnel-like inlet structure is provided. The method includes providing a wafer including a substrate, a first layer deposited on the substrate, a stop layer deposited on the first layer, a sacrificial layer deposited on the stop layer, and a structuring layer deposited on the sacrificial layer. The stop layer, the sacrificial layer, and the structuring layer forming a layer stack defining a nanochannel etch. The method may additionally include forming an underetch and depositing a capping layer on the structural layer to seal the nanochannel. A protecting layer may be deposited on the capping layer to protect the availability of an etchant molecule. A microchannel etch may be formed in the layer stack adjacent to the nanochannel etch, and the sacrificial layer next to an opening of the nanochannel may be etched to form a funnel-like inlet structure.[French]
L'invention concerne un procédé de fabrication d'un nanocanal comprenant une structure d'entrée en forme d'entonnoir. Le procédé comprend la fourniture d'une tranche comprenant un substrat, une première couche déposée sur le substrat, une couche d'arrêt déposée sur la première couche, une couche sacrificielle déposée sur la couche d'arrêt, et une couche de structuration déposée sur la couche sacrificielle. La couche d'arrêt, la couche sacrificielle, et la couche de structuration formant un empilement de couches définissant une attaque de nanocanal. Le procédé peut en outre comprendre la formation d'une sous-attaque et le dépôt d'une couche de recouvrement sur la couche structurale afin de sceller le nanocanal. Une couche de protection peut être déposée sur la couche de recouvrement en vue de protéger la disponibilité d'une molécule d'agent d'attaque chimique. Une attaque de microcanal peut être formée dans l'empilement de couches adjacent à l'attaque de nanocanal, et la couche sacrificielle à côté d'une ouverture du nanocanal peut faire l'objet d'une attaque afin de former une structure d'entrée en forme d'entonnoir.