WO2026124711 - BAUTEIL FÜR EINE ELEKTROCHEMISCHE ZELLE UND ELEKTROCHEMISCHE ZELLE
National phase entry is expected:
Publication Number
WO/2026/124711
Publication Date
18.06.2026
International Application No.
PCT/DE2025/101008
International Filing Date
30.10.2025
Title **
[German]
BAUTEIL FÜR EINE ELEKTROCHEMISCHE ZELLE UND ELEKTROCHEMISCHE ZELLE
[English]
COMPONENT FOR AN ELECTROCHEMICAL CELL, AND ELECTROCHEMICAL CELL
[French]
COMPOSANT POUR CELLULE ÉLECTROCHIMIQUE ET CELLULE ÉLECTROCHIMIQUE
Applicants **
SCHAEFFLER TECHNOLOGIES AG & CO. KG
Inventors
SCHAEPERKOETTER, Claus
DE BROUWER, Benno
HROUDA, Ales
LUTZ, Stefan
HACKNER, Josef
HAUCK, Josef
Priority Data
102024137592.2
13.12.2024
DE
Application details
| Total Number of Claims/PCT | * |
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EPO
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| Type of Assignment |
The Standard Agent's Assignment
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| Applicant's Legal Status |
Legal Entity
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| Entry into National Phase under |
Chapter I
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| Patent Delivery |
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Quotation for National Phase entry
| Country | Stages | Total | |
|---|---|---|---|
| China | Filing, Examination, Granting | 1967 | |
| EPO | Filing, Examination, Granting | 8113 | |
| Japan | Filing, Examination, Granting | 2091 | |
| South Korea | Filing, Examination, Granting | 1945 | |
| USA | Filing, Examination, Granting | 4740 |
Total:
18,856
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Abstract[German]
Die Erfindung betrifft ein Bauteil (1, 1 ') einer elektrochemischen Zelle (10) in Form einer Bipolarplatte, welche im Schnittbild senkrecht zu einer Plattenebene der Bipolarplatte gesehen zumindest im Bereich eines Aktivfeldes (2) eine Grundplatte (1a) mit einer wellenförmigen dreidimensionalen Gestaltung aufweist, derart, dass ein Wellenberg (WB) auf ein Wellental (WT) folgt und umgekehrt, und mit mindestens einer ersten offen-porösen Schichtlage (1b), welche eben ausgebildet ist und auf einer ersten Seite der Grundplatte (1a) diese überdeckend ausgebildet ist, mit mindestens einer zweiten offen-porösen Schichtlage (1c), welche eben ausgebildet ist und auf einer zweiten Seite der Grundplatte (1a) diese überdeckend ausgebildet ist, wobei auf beiden Seiten der Grundplatte (1a) jeweils zwischen zwei benachbarten Wellenkämmen (WK) mindestens eine Verstärkungsstruktur (3) vorhanden ist, welche ausgehend von der Grundplatte (1a) mit der jeweils angrenzenden offen-porösen Schichtlage (1b, 1c) stoffschlüssig verbunden ist und wobei ein die Verstärkungsstruktur (3) aufweisender Bauraum zwischen der Grundplatte (1a) und der jeweiligen offen-porösen Schichtlage (1b, 1c) durchströmbar ausgebildet ist.[English]
The invention relates to a component (1, 1') for an electrochemical cell (10), the component being in the form of a bipolar plate, which, as seen in the sectional image perpendicular to the plane of the bipolar plate, has, at least in the region of an active field (2), a base (1a) with a wave-shaped three-dimensional design such that a wave crest (WB) follows a wave trough (WT) and vice versa, having at least one first open-porous layer (1b), which is flat and is designed to cover a first face of the base (1a), and having at least one second open-porous layer (1c), which is flat and is designed to cover a second face of the base (1a), wherein at least one reinforcing structure (3) is provided on both faces of the base (1a) between two adjacent wave peaks (WK) in each case, the reinforcing structure being integrally bonded to the respective adjacent open-porous layer (1b, 1c) starting from the base (1a), and an installation space through which a fluid can flow and which has the reinforcing structure (3) is formed between the base (1a) and the respective open-porous layer (1b, 1c).[French]
L'invention concerne un composant (1, 1') destiné à une cellule électrochimique (10), le composant se présentant sous la forme d'une plaque bipolaire qui, telle que représentée sur l'image en coupe perpendiculaire au plan de la plaque bipolaire, comprend, au moins dans la région d'un champ actif (2), une base (1a) ayant une conception tridimensionnelle ondulée telle qu'une crête d'onde (WB) suit un creux d'onde (WT) et vice versa, avec au moins une première couche poreuse ouverte (1b), qui est plane et est conçue pour recouvrir une première face de la base (1a), et au moins une seconde couche poreuse ouverte (1c), qui est plane et est conçue pour recouvrir une seconde face de la base (1a), au moins une structure de renfort (3) étant disposée sur les deux faces de la base (1a) entre deux crêtes d'onde adjacentes (WK) dans chaque cas, la structure de renfort étant liée d'un seul tenant à la couche poreuse ouverte adjacente respective (1b, 1c) à partir de la base (1a), et un espace d'installation à travers lequel un fluide peut s'écouler et qui comporte la structure de renfort (3) étant formé entre la base (1a) et la couche poreuse ouverte respective (1b, 1c).