WO2026103189 - CLEANING SYSTEM, CLEANING DEVICE, BASE STATION, AND CLEANING SYSTEM CONTROL METHOD
National phase entry is expected:
Publication Number
WO/2026/103189
Publication Date
21.05.2026
International Application No.
PCT/CN2025/107787
International Filing Date
09.07.2025
Title **
[English]
CLEANING SYSTEM, CLEANING DEVICE, BASE STATION, AND CLEANING SYSTEM CONTROL METHOD
[French]
SYSTÈME DE NETTOYAGE, DISPOSITIF DE NETTOYAGE, STATION DE BASE ET PROCÉDÉ DE COMMANDE DE SYSTÈME DE NETTOYAGE
[Chinese]
清洁系统、清洁设备、基站和清洁系统控制方法
Applicants **
XINGMAI INNOVATION TECHNOLOGY (SUZHOU) CO., LTD.
Inventors
WANG, Shengle
QIAO, Liang
BIAN, Minhao
Priority Data
202521181866.7
10.06.2025
CN
PCT/CN2024/137628
06.12.2024
CN
PCT/CN2025/073171
19.01.2025
CN
PCT/CN2025/073739
21.01.2025
CN
PCT/CN2025/085184
26.03.2025
CN
18/946,861
13.11.2024
US
Application details
| Total Number of Claims/PCT | * |
| Number of Independent Claims | * |
| Number of Priorities | * |
| Number of Multi-Dependent Claims | * |
| Number of Drawings | * |
| Pages for Publication | * |
| Number of Pages with Drawings | * |
| Pages of Specification | * |
| * | |
| Number of Office Actions | * |
| * | |
International Searching Authority |
CNIPA
* |
| Recordal of a Change of the Applicant's Name/Address |
Change of Applicant's Name and Address
* |
| Type of Assignment |
The Standard Agent's Assignment
* |
| Applicant's Legal Status |
Legal Entity
* |
| * | |
| * | |
| * | |
| * | |
| * | |
| Entry into National Phase under |
Chapter I
* |
| Patent Delivery |
Send the Letters Patent by Courier
* |
| 译文 |
|
* The data is based on automatic recognition. Please verify and amend if necessary.
** IP-Coster compiles data from publicly available sources. If this data includes your personal information, you can contact us to request its removal.
Quotation for National Phase entry
| Country | Stages | Total | |
|---|---|---|---|
| China | Filing, Examination, Granting | 2345 | |
| EPO | Filing, Examination, Granting | 14886 | |
| Japan | Filing, Examination, Granting | 2307 | |
| South Korea | Filing, Examination, Granting | 2633 | |
| USA | Filing, Examination, Granting | 4740 |
Total:
26,911
Contact Us
Abstract[English]
A cleaning system, a cleaning device, a base station, and a cleaning system control method. The cleaning system comprises the cleaning device and the base station. The cleaning device comprises a first filtering assembly, a water inlet, and a debris propulsion apparatus disposed at the water inlet. The debris propulsion apparatus is configured to accelerate water surface debris to flow through the water inlet into the interior of the first filtering assembly. The base station comprises: a carrier member adapted for docking of the cleaning device; and a support member comprising a second filtering assembly. The base station is configured to suction debris from within the first filtering assembly of the cleaning device into the second filtering assembly. The cleaning system control method comprises: when a cleaning device receives an instruction to return to a base station, controlling the cleaning device to be in a water surface state, and navigating the cleaning device in the water surface state toward a carrier member for docking; and performing self-cleaning upon completion of docking.[French]
L'invention concerne un système de nettoyage, un dispositif de nettoyage, une station de base et un procédé de commande de système de nettoyage. Le système de nettoyage comprend le dispositif de nettoyage et la station de base. Le dispositif de nettoyage comprend un premier ensemble de filtration, une entrée d'eau et un appareil de propulsion de débris disposé au niveau de l'entrée d'eau. L'appareil de propulsion de débris est conçu pour accélérer l'écoulement de débris à la surface d'eau à travers l'entrée d'eau vers l'intérieur du premier ensemble de filtration. La station de base comprend : un élément porteur conçu pour l'amarrage du dispositif de nettoyage ; et un élément de support comprenant un second ensemble de filtration. La station de base est conçue pour aspirer des débris depuis l'intérieur du premier ensemble de filtration du dispositif de nettoyage pour les amener dans le second ensemble de filtration. Le procédé de commande de système de nettoyage consiste à : lorsqu'un dispositif de nettoyage reçoit une instruction de retour sur une station de base, commander le dispositif de nettoyage pour qu'il soit dans un état à la surface de l'eau, et faire naviguer le dispositif de nettoyage dans l'état à la surface d'eau vers un élément porteur pour amarrage ; et effectuer un auto-nettoyage à la fin de l'amarrage.[Chinese]
一种清洁系统、清洁设备、基站和清洁系统控制方法，清洁系统包括清洁设备和基站，清洁设备包括第一过滤组件、进水口和设置于进水口处的垃圾推进装置，垃圾推进装置用于加快水面垃圾从进水口流入第一过滤组件内部；基站包括：承载件，适于清洁设备停靠；支撑件，包括第二过滤组件，基站用于将清洁设备第一过滤组件内的垃圾抽吸至第二过滤组件内；清洁系统的控制方法，当清洁设备接收到回基站指令后，控制清洁设备处于水面状态，从水面状态驶向承载件进行对接，对接完成后进行自清洁。