IP-Coster | WO2026040417 | PHASE-SHIFT MASK SUBSTRATE ALLOY TARGET AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR

Country	Stages	Total
China	Filing, Examination, Granting	1577
EPO	Filing, Examination, Granting	11551
Japan	Filing, Examination, Granting	2000
South Korea	Filing, Examination, Granting	1802
USA	Filing, Examination, Granting	4740

Abstract[English] The present invention provides a phase-shift mask substrate alloy target and a manufacturing method therefor. The manufacturing method for a phase-shift mask substrate alloy target comprises the following steps: uniformly mixing high-purity Mo powder and Si powder to obtain Mo-Si mixed powder; adding a carbon-containing material to the Mo-Si mixed powder and uniformly mixing to obtain carbon-containing Mo-Si mixed powder; using an isostatic pressing process to prepare the carbon-containing Mo-Si mixed powder into a preformed body; using a high-temperature sintering process to prepare the preformed body into a phase-shift mask substrate alloy target blank; and welding the phase-shift mask substrate alloy target blank to a backing plate to prepare a phase-shift mask substrate alloy target. The manufacturing method for a phase-shift mask substrate alloy target can improve product stability of the phase-shift mask substrate alloy target, and can effectively solve the technical problems in the prior art of poor film formation quality, high production costs and potential safety hazards in a method for introducing a carbon source into a phase-shift film.[French] La présente invention concerne une cible en alliage de substrat de masque à déphasage et un procédé de fabrication associé. Le procédé de fabrication d'une cible en alliage de substrat de masque à déphasage comprend les étapes suivantes : mélanger uniformément de la poudre de Mo de haute pureté et de la poudre de Si pour obtenir une poudre mélangée de Mo-Si ; ajouter un matériau contenant du carbone à la poudre mélangée de Mo-Si et mélanger uniformément pour obtenir une poudre mélangée de Mo-Si contenant du carbone ; utiliser un procédé de pressage isostatique pour préparer la poudre mélangée de Mo-Si contenant du carbone dans un corps préformé ; utiliser un procédé de frittage à haute température pour préparer le corps préformé dans une ébauche de cible en alliage de substrat de masque à déphasage ; et souder l'ébauche de cible en alliage de substrat de masque à déphasage à une plaque de support pour préparer une cible en alliage de substrat de masque à déphasage. Le procédé de fabrication d'une cible en alliage de substrat de masque à déphasage peut améliorer la stabilité de produit de la cible en alliage de substrat de masque à déphasage, et peut résoudre efficacement les problèmes techniques de l'état de la technique concernant une mauvaise qualité de formation de film, des coûts de production élevés et des risques potentiels liés à la sécurité dans un procédé d'introduction d'une source de carbone dans un film à déphasage.[Chinese] 本发明提供一种相移掩模基版合金靶材及其制造方法，该相移掩模基版合金靶材的制造方法包括以下步骤：将高纯度Mo粉与Si粉混合均匀，得到Mo、Si混合粉体；向Mo、Si混合粉体中加入含碳物质并混合均匀，得到含碳的Mo、Si混合粉体；采用等静压工艺将含碳的Mo、Si混合粉体制成预制坯体；采用高温烧结工艺将预制坯体制成相移掩模基版合金靶坯；将相移掩模基版合金靶坯与背板焊接制成相移掩模基版合金靶材。上述的相移掩模基版合金靶材的制造方法能够提高相移掩模基版合金靶材的产品稳定性，且能够有效解决现有技术中对相移膜引入碳源的方法存在的成膜质量差、生产成本高且存在安全隐患的技术问题。

Total Number of Claims/PCT	*
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International Searching Authority	CNIPA *
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Type of Assignment	The Standard Agent's Assignment *
Applicant's Legal Status	Legal Entity *
Small Entity	*
Non-Commercial Organization	*
Micro Entity	*
Small Entity, USA	*
Micro Entity, USA	*
Entry into National Phase under	Chapter I *
Patent Delivery	Send the Letters Patent by Courier *
译文

WO2026040417 - PHASE-SHIFT MASK SUBSTRATE ALLOY TARGET AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR

Quotation for National Phase entry

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