WO2026025340 - ARRAY SUBSTRATE AND DISPLAY APPARATUS
National phase entry is expected:
Publication Number
WO/2026/025340
Publication Date
05.02.2026
International Application No.
PCT/CN2024/108759
International Filing Date
31.07.2024
Title **
[English]
ARRAY SUBSTRATE AND DISPLAY APPARATUS
[French]
SUBSTRAT MATRICIEL ET APPAREIL D'AFFICHAGE
Applicants **
BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD.
CHENGDU BOE OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD.
BEIJING BOE TECHNOLOGY DEVELOPMENT CO., LTD.
Inventors
ZHANG, Tiaomei
HE, Qing
YU, Ziyang
HE, Fan
ZHANG, Yi
YANG, Mingkun
HU, Ming
QIU, Haijun
Application details
| Total Number of Claims/PCT | * |
| Number of Independent Claims | * |
| Number of Priorities | * |
| Number of Multi-Dependent Claims | * |
| Number of Drawings | * |
| Pages for Publication | * |
| Number of Pages with Drawings | * |
| Pages of Specification | * |
| * | |
| Number of Office Actions | * |
| * | |
International Searching Authority |
CNIPA
* |
| Recordal of a Change of the Applicant's Name/Address |
Change of Applicant's Name and Address
* |
| Type of Assignment |
The Standard Agent's Assignment
* |
| Applicant's Legal Status |
Legal Entity
* |
| * | |
| * | |
| * | |
| * | |
| * | |
| Entry into National Phase under |
Chapter I
* |
| Patent Delivery |
Send the Letters Patent by Courier
* |
| 译文 |
|
* The data is based on automatic recognition. Please verify and amend if necessary.
** IP-Coster compiles data from publicly available sources. If this data includes your personal information, you can contact us to request its removal.
Quotation for National Phase entry
| Country | Stages | Total | |
|---|---|---|---|
| China | Filing, Examination, Granting | 2197 | |
| EPO | Filing, Examination, Granting | 15654 | |
| Japan | Filing, Examination, Granting | 2307 | |
| South Korea | Filing, Examination, Granting | 2370 | |
| USA | Filing, Examination, Granting | 4740 |
Total:
27,268
Contact Us
Abstract[English]
An array substrate is provided. The array substrate includes a base substrate; a light shielding layer on the base substrate; and a second signal line layer on a side of the light shielding layer away from the base substrate. The light shielding layer includes a plurality of first light shielding lines and a plurality of second light shielding lines interconnected together. A respective first light shielding line extends along a first direction. A respective second shielding line extends along a second direction. The second signal line layer includes a plurality of fourth reset signal lines. A respective fourth reset signal of the plurality of fourth reset signal lines extends along the second direction. An orthographic projection of the respective fourth reset signal line on the base substrate substantially covers an orthographic projection of the respective second light shielding line on the base substrate.[French]
Est prévu un substrat matriciel. Le substrat matriciel comprend un substrat de base ; une couche de protection contre la lumière sur le substrat de base ; et une seconde couche de ligne de signal sur un côté de la couche de protection contre la lumière à l'opposé du substrat de base. La couche de protection contre la lumière comprend une pluralité de premières lignes de protection contre la lumière et une pluralité de secondes lignes de protection contre la lumière interconnectées ensemble. Une première ligne de protection contre la lumière respective s'étend suivant une première direction. Une seconde ligne de protection respective s'étend suivant une seconde direction. La seconde couche de ligne de signal comprend une pluralité de quatrièmes lignes de signal de réinitialisation. Un quatrième signal de réinitialisation respectif de la pluralité de quatrièmes lignes de signal de réinitialisation s'étend suivant la seconde direction. Une projection orthographique de la quatrième ligne de signal de réinitialisation respective sur le substrat de base recouvre sensiblement une projection orthographique de la seconde ligne de protection contre la lumière respective sur le substrat de base.