WO2025199544 - METHOD AND APPARATUS FOR ION BEAM DIRECTIONAL DEPOSITION
National phase entry is expected:
Publication Number
WO/2025/199544
Publication Date
25.09.2025
International Application No.
PCT/US2025/021206
International Filing Date
24.03.2025
Title **
[English]
METHOD AND APPARATUS FOR ION BEAM DIRECTIONAL DEPOSITION
[French]
PROCÉDÉ ET APPAREIL DE DÉPÔT DIRECTIONNEL DE FAISCEAU D'IONS
Applicants **
AXCELIS TECHNOLOGIES, INC.
Inventors
GILCHRIST, Glen
Priority Data
63/569,018
22.03.2024
US
63/569,029
22.03.2024
US
63/631,518
09.04.2024
US
Application details
| Total Number of Claims/PCT | * |
| Number of Independent Claims | * |
| Number of Priorities | * |
| Number of Multi-Dependent Claims | * |
| Number of Drawings | * |
| Pages for Publication | * |
| Number of Pages with Drawings | * |
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| Number of Office Actions | * |
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International Searching Authority |
EPO
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| Recordal of a Change of the Applicant's Name/Address |
Change of Applicant's Name and Address
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| Type of Assignment |
The Standard Agent's Assignment
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| Applicant's Legal Status |
Legal Entity
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| Entry into National Phase under |
Chapter I
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| Patent Delivery |
Send the Letters Patent by Courier
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| Translation |
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Quotation for National Phase entry
| Country | Stages | Total | |
|---|---|---|---|
| China | Filing, Examination, Granting | 2616 | |
| EPO | Filing, Examination, Granting | 15981 | |
| Japan | Filing, Examination, Granting | 2625 | |
| South Korea | Filing, Examination, Granting | 3052 | |
| USA | Filing, Examination, Granting | 6740 |
Total:
31,014
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Abstract[English]
A deposition system has an ion deposition apparatus configured to direct a deposition species toward a workpiece along a path. The workpiece has one or more features having a gap defined by the one or more features. A workpiece support holds the workpiece to receive the deposition species at a predetermined tilt angle with respect to the path. The ion deposition apparatus deposits the deposition species on the one or more features, the workpiece support rotates the workpiece with respect to the path, growing a deposition film of the deposition species on the one or more features in a predetermined manner. The deposition film can seal the gap to define a sealed cavity. Alternatively, the one or more features can be a mask that is augmented by the deposition film to increase one or more dimensions of the mask.[French]
La présente invention porte sur un système de dépôt qui comprend un appareil de dépôt d'ions configuré pour diriger une espèce de dépôt vers une pièce à travailler le long d'un trajet. La pièce à travailler a une ou plusieurs caractéristiques ayant un espace défini par la ou les caractéristiques. Un support de pièce à travailler maintient la pièce à travailler pour recevoir l'espèce de dépôt à un angle d'inclinaison prédéterminé par rapport au trajet. L'appareil de dépôt d'ions dépose l'espèce de dépôt sur la ou les caractéristiques, le support de pièce à travailler fait tourner la pièce à travailler par rapport au trajet, faisant croître un film de dépôt de l'espèce de dépôt sur la ou les caractéristiques d'une manière prédéterminée. Le film de dépôt peut sceller l'espace pour définir une cavité scellée. En variante, la ou les caractéristiques peuvent être un masque qui est augmenté par le film de dépôt pour augmenter une ou plusieurs dimensions du masque.