WO2025171361 - SYSTEM AND METHOD FOR MANAGING SOLID PHASE PRECURSORS FOR AN ION IMPLANTATION SYSTEM
National phase entry is expected:
Publication Number
WO/2025/171361
Publication Date
14.08.2025
International Application No.
PCT/US2025/015147
International Filing Date
07.02.2025
Title **
[English]
SYSTEM AND METHOD FOR MANAGING SOLID PHASE PRECURSORS FOR AN ION IMPLANTATION SYSTEM
[French]
SYSTÈME ET PROCÉDÉ DE GESTION DE PRÉCURSEURS DE PHASE SOLIDE POUR UN SYSTÈME D'IMPLANTATION IONIQUE
Applicants **
AXCELIS TECHNOLOGIES, INC.
Inventors
BASSOM, Neil
COLVIN, Neil
ROMANOV, Vladimir
SZETO, Vincent
Priority Data
63/550,706
07.02.2024
US
Application details
| Total Number of Claims/PCT | * |
| Number of Independent Claims | * |
| Number of Priorities | * |
| Number of Multi-Dependent Claims | * |
| Number of Drawings | * |
| Pages for Publication | * |
| Number of Pages with Drawings | * |
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International Searching Authority |
EPO
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| Recordal of a Change of the Applicant's Name/Address |
Change of Applicant's Name and Address
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| Type of Assignment |
The Standard Agent's Assignment
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| Applicant's Legal Status |
Legal Entity
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| Entry into National Phase under |
Chapter I
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| Patent Delivery |
Send the Letters Patent by Courier
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| Translation |
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Quotation for National Phase entry
| Country | Stages | Total | |
|---|---|---|---|
| China | Filing, Examination, Granting | 2167 | |
| EPO | Filing, Examination, Granting | 10670 | |
| Japan | Filing, Examination, Granting | 2327 | |
| South Korea | Filing, Examination, Granting | 2350 | |
| USA | Filing, Examination, Granting | 4740 |
Total:
22,254
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Abstract[English]
A filter is configured to impede a flow of vapor from a vaporizer to an arc chamber in an ion implantation system. The flow is impeded to such a degree that the vaporizer must be operated at a higher temperature to match the flow rate that would result without the filter. Increasing the vaporizer temperature at which the vaporizer supplies the arc chamber with an operative flow rate of a vapor of an ion source material contained in the vaporizer prevents entry to the arc chamber of ion source material that is inadvertently vaporized by waste heat from the arc chamber while another species is being implanted. The filter may have a temperature-dependent permeability so as to provide a sharp transition between a temperature range at which the vapor flow is effectively cut off and a temperature range at which the vapor flow is at an operative rate.[French]
Un filtre est configuré pour empêcher une circulation de vapeur depuis un vaporisateur vers une chambre à arc dans un système d'implantation ionique. Le flux est entravé à un degré tel que le vaporisateur doit être actionné à une température plus élevée pour correspondre au débit qui résulterait sans le filtre. L'augmentation de la température du vaporisateur à laquelle le vaporisateur alimente la chambre à arc avec un débit opérationnel d'une vapeur d'un matériau source d'ions contenu dans le vaporisateur empêche la pénétration dans la chambre à arc de matériau source d'ions qui est vaporisée par inadvertance par la chaleur perdue provenant de la chambre à arc tandis qu'une autre espèce est implantée. Le filtre peut avoir une perméabilité dépendant de la température afin de permettre une transition nette entre une plage de température à laquelle le flux de vapeur est efficacement interrompu et une plage de température à laquelle le flux de vapeur est à un débit fonctionnel.