WO2026126098 - INTERFEROMETRIC DISPLACEMENT MEASUREMENT SYSTEM AND METHODS
National phase entry is expected:
Publication Number
WO/2026/126098
Publication Date
18.06.2026
International Application No.
PCT/IB2025/062640
International Filing Date
10.12.2025
Title **
[English]
INTERFEROMETRIC DISPLACEMENT MEASUREMENT SYSTEM AND METHODS
[French]
SYSTÈME ET PROCÉDÉS DE MESURE DE DÉPLACEMENT INTERFÉROMÉTRIQUE
Applicants **
TECHNISCHE UNIVERSITEIT EINDHOVEN
Inventors
LOOMAN, Kevin
CACACE, Lennino
BLOM, Lowe
Priority Data
63/730,587
11.12.2024
US
Application details
| Total Number of Claims/PCT | * |
| Number of Independent Claims | * |
| Number of Priorities | * |
| Number of Multi-Dependent Claims | * |
| Number of Drawings | * |
| Pages for Publication | * |
| Number of Pages with Drawings | * |
| Pages of Specification | * |
| * | |
| Number of Office Actions | * |
| * | |
International Searching Authority |
EPO
* |
| Recordal of a Change of the Applicant's Name/Address |
Change of Applicant's Name and Address
* |
| Type of Assignment |
The Standard Agent's Assignment
* |
| Applicant's Legal Status |
Legal Entity
* |
| * | |
| * | |
| * | |
| * | |
| * | |
| Entry into National Phase under |
Chapter I
* |
| Patent Delivery |
Send the Letters Patent by Courier
* |
| Translation |
|
* The data is based on automatic recognition. Please verify and amend if necessary.
** IP-Coster compiles data from publicly available sources. If this data includes your personal information, you can contact us to request its removal.
Quotation for National Phase entry
| Country | Stages | Total | |
|---|---|---|---|
| China | Filing, Examination, Granting | 2707 | |
| EPO | Filing, Examination, Granting | 15193 | |
| Japan | Filing, Examination, Granting | 2514 | |
| South Korea | Filing, Examination, Granting | 2739 | |
| USA | Filing, Examination, Granting | 5940 |

Total:
29,093
Contact Us
Abstract[English]
A displacement measurement interferometer has a beam coupler to decollimate source radiation; beam-splitting optics that (a) output the source radiation toward a reflective target and (b) split reflected radiation into a single-pass optical beam and a multi-pass optical beam; and reflective optics to retroreflect the multi-pass optical beam through the beam-splitting optics to the reflective target. A method for measuring displacement of an object includes: reflecting non-collimated source radiation off a surface of the object; splitting reflected radiation from the surface of the object into a single-pass optical beam and a multi-pass optical beam; retroreflecting the multi-pass optical beam to the surface; and determining the displacement from an interference signal between the single-pass optical beam and the multi-pass optical beam after the single-pass optical beam reflects off the surface and after the multi-pass optical beam reflects off the surface at least twice.[French]
L'invention concerne un interféromètre de mesure de déplacement comprenant un coupleur de faisceau destiné à décollimater un rayonnement de source ; une optique de division de faisceau qui (a) délivre en sortie le rayonnement de source vers une cible réfléchissante et (b) divise le rayonnement réfléchi en un faisceau optique à passage unique et un faisceau optique à passages multiples ; et une optique réfléchissante destinée à rétroréfléchir le faisceau optique à passages multiples à travers l'optique de division de faisceau vers la cible réfléchissante. L'invention concerne également un procédé de mesure du déplacement d'un objet consistant à : réfléchir un rayonnement de source non collimaté sur une surface de l'objet ; diviser le rayonnement réfléchi à partir de la surface de l'objet en un faisceau optique à passage unique et un faisceau optique à passages multiples ; rétroréfléchir le faisceau optique à passages multiples vers la surface ; et déterminer le déplacement à partir d'un signal de brouillage entre le faisceau optique à passage unique et le faisceau optique à passages multiples après que le faisceau optique à passage unique se soit réfléchi sur la surface et après que le faisceau optique à passages multiples se soit réfléchi sur la surface au moins deux fois.