WO2025252286 - OPTISCHE SENSORVORRICHTUNG UND HERSTELLUNGSVERFAHREN EINER OPTISCHEN SENSORVORRICHTUNG
National phase entry is expected:
Publication Number
WO/2025/252286
Publication Date
11.12.2025
International Application No.
PCT/DE2025/100534
International Filing Date
28.05.2025
Title **
[German]
OPTISCHE SENSORVORRICHTUNG UND HERSTELLUNGSVERFAHREN EINER OPTISCHEN SENSORVORRICHTUNG
[English]
OPTICAL SENSOR DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING AN OPTICAL SENSOR DEVICE
[French]
ENSEMBLE CAPTEUR OPTIQUE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN ENSEMBLE CAPTEUR OPTIQUE
Applicants **
ELMOS SEMICONDUCTOR SE
Inventors
KÖLBEL, Julia
ROTTER, Thomas
Priority Data
102024115419.5
03.06.2024
DE
Application details
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The Standard Agent's Assignment
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Legal Entity
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Chapter II
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Quotation for National Phase entry
| Country | Stages | Total | |
|---|---|---|---|
| China | Filing, Examination, Granting | 2054 | |
| EPO | Filing, Examination, Granting | 8297 | |
| Japan | Filing, Examination, Granting | 2140 | |
| South Korea | Filing, Examination, Granting | 1983 | |
| USA | Filing, Examination, Granting | 4740 |
Total:
19,214
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Abstract[German]
Die Erfindung betrifft eine optische Sensorvorrichtung (100) umfassend einen Schichtstapel (110) mit wenigstens ein Substrat (111), welches wenigstens ein erstes optoelektronisches Bauteil (112a) und ein zweites optoelektronisches Bauteil (112b) aufweist. Weiter umfasst der Schichtstapel (110) wenigstens eine dielektrische Schicht (114), welche oberhalb des Substrats (111) angeordnet ist, und wenigstens eine Metallisierungsstruktur (120), mit einer obersten Metallschicht (121), und wobei die wenigstens eine Metallisierungsstruktur (120) zwischen dem ersten optoelektronischen Bauteil (112a) und dem zweitem optoelektronisches Bauteil (112b) angeordnet ist. Weiter umfasst der Schichtstapel (110) wenigstens eine Passivierungsschicht (115), welche oberhalb der dielektrischen Schicht (114) angeordnet ist. Dabei weist der Schichtstapel (110) wenigstens ein Fenster (130) über der wenigstens einen Metallisierungsstruktur (120) und/oder über dem ersten optoelektronischen Bauteil (112a) und/oder dem zweitem optoelektronisches Bauteil (112b) auf. Weiter betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung einer solchen optischen Sensorvorrichtung (100).[English]
The invention relates to an optical sensor device (100) comprising a layer stack (110) having at least one substrate (111) which has at least a first optoelectronic component (112a) and a second optoelectronic component (112b). The layer stack (110) further comprises at least one dielectric layer (114), which is provided above the substrate (111); at least one metallization structure (120) having an uppermost metal layer (121), the at least one metallization structure (120) being provided between the first optoelectronic component (112a) and the second optoelectronic component (112b); and at least one passivation layer (115), which is provided above the dielectric layer (114). The layer stack (110) has at least one window (130) above the at least one metallization structure (120) and/or above the first optoelectronic component (112a) and/or the second optoelectronic component (112b). The invention further relates to a method for producing such an optical sensor device (100).[French]
L'invention concerne un ensemble capteur (100) optique comprenant un empilement de couches (110) comprenant au moins un substrat (111) présentant au moins un premier composant (112a) optoélectronique et un deuxième composant (112b) optoélectronique. L'empilement de couches (110) comprend en outre au moins une couche diélectrique (114), qui est disposée au-dessus du substrat (111), et au moins une structure de métallisation (120), comportant une couche métallique (121) supérieure, la ou les structures de métallisation (120) étant disposée entre le premier composant (112a) optoélectronique et le deuxième composant (112b) optoélectronique. L'empilement de couches (110) comprend en outre au moins une couche de passivation (115) qui est agencée au-dessus de la couche diélectrique (114). L'empilement de couches (110) comporte au moins une fenêtre (130) située au-dessus de la ou des structures de métallisation (120) et/ou au-dessus du premier composant (112a) optoélectronique et/ou du deuxième composant (112b) optoélectronique. L'invention concerne en outre un procédé de production d'un tel ensemble capteur (100) optique.