WO2026124192 - POSITIONING SYSTEM, RADIATION IRRADIATION SYSTEM AND POSITIONING METHOD
National phase entry is expected:
Publication Number
WO/2026/124192
Publication Date
18.06.2026
International Application No.
PCT/CN2025/137296
International Filing Date
25.11.2025
Title **
[English]
POSITIONING SYSTEM, RADIATION IRRADIATION SYSTEM AND POSITIONING METHOD
[French]
SYSTÈME DE POSITIONNEMENT, SYSTÈME D'IRRADIATION ET PROCÉDÉ DE POSITIONNEMENT
[Chinese]
摆位系统、放射线照射系统和摆位方法
Applicants **
NEUBORON THERAPY SYSTEM LTD.
Inventors
SHU, Di-yun
CHEN, Jiang
GONG, Qiu-ping
XIE, Qiao-lin
Priority Data
202411807268.6
10.12.2024
CN
Application details
| Total Number of Claims/PCT | * |
| Number of Independent Claims | * |
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International Searching Authority |
CNIPA
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| Recordal of a Change of the Applicant's Name/Address |
Change of Applicant's Name and Address
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| Type of Assignment |
The Standard Agent's Assignment
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| Applicant's Legal Status |
Legal Entity
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| Entry into National Phase under |
Chapter I
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| Patent Delivery |
Send the Letters Patent by Courier
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| Translation |
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Quotation for National Phase entry
| Country | Stages | Total | |
|---|---|---|---|
| China | Filing, Examination, Granting | 1690 | |
| EPO | Filing, Examination, Granting | 11600 | |
| Japan | Filing, Examination, Granting | 2150 | |
| South Korea | Filing, Examination, Granting | 2042 | |
| USA | Filing, Examination, Granting | 4740 |
Total:
22,222
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Abstract[English]
Provided in the present application are a positioning system, a radiation irradiation system and a positioning method. The positioning system comprises: a first mounting apparatus, which is used for supporting a subject in a first posture; a second mounting apparatus, which is used for supporting a subject in a second posture; a first positioning light source group, which is used for forming a first light spot area on the subject when positioning in the first posture has been completed; and a second positioning light source group, which is used for forming a second light spot area on the subject when the subject is located on the second mounting apparatus, so as to indicate the correspondence between the positions of the second light spot area and first light spot area on the subject. In the present solution, a known mounting apparatus and a positioning method for the known mounting apparatus are used, and in view of positioning light sources, the switching of a posture and mounting apparatus is performed, thereby realizing the accurate positioning of a special posture and a special mounting apparatus; and the present solution can be implemented without the need for adding expensive equipment or making extensive modifications to an existing treatment room, thereby reducing the difficulty of installation and maintenance.[French]
La présente demande concerne un système de positionnement, un système d'irradiation et un procédé de positionnement. Le système de positionnement comprend : un premier appareil de montage, qui est utilisé pour supporter un sujet dans une première posture ; un deuxième appareil de montage, qui est utilisé pour supporter un sujet dans une deuxième posture ; un premier groupe de sources de lumière de positionnement, qui est utilisé pour former un premier point lumineux sur le sujet une fois que le positionnement dans la première posture est achevé ; et un deuxième groupe de sources de lumière de positionnement, qui est utilisé pour former un deuxième point lumineux sur le sujet lorsque le sujet est situé sur le deuxième appareil de montage, de façon à indiquer la correspondance entre les positions du deuxième point lumineux et du premier point lumineux sur le sujet. Dans la présente solution, un appareil de montage connu et un procédé de positionnement pour l'appareil de montage connu sont utilisés, et en vue de positionner des sources de lumière, un changement de posture et d'appareil de montage est effectué, ce qui permet de réaliser le positionnement précis d'une posture spécifique et d'un appareil de montage spécifique ; et la présente solution peut être mise en œuvre sans nécessiter l'ajout d'un équipement coûteux ou la réalisation de modifications importantes dans une salle de traitement existante, ce qui permet de réduire la difficulté d'installation et de maintenance.[Chinese]
本申请提供一种摆位系统、放射线照射系统和摆位方法。摆位系统包括：第一载置装置，用于承载第一姿态的被载置体；第二载置装置，用于承载第二姿态的被载置体；第一定位光源组，用于在第一姿态的摆位完成的状态下，在所述被载置体上形成第一光斑区域；第二定位光源组，用于在被载置体位于所述第二载置装置时，在所述被载置体上形成第二光斑区域，以指示被载置体上的第二光斑区域与所述第一光斑区域的位置的对应情况。本方案利用已知的载置装置和对已知载置装置的摆位方法，结合定位光源进行姿态和载置装置的转换，实现特殊姿态、特殊载置装置的准确定位，且无需增加昂贵的设备、无需大幅改造原有的治疗室即可实现，降低了安装维护难度。