IP-Coster | WO2025218602 | TREATMENT PROCESS FOR RESIDUE SLURRY DURING POLYCRYSTALLINE SILICON PRODUCTION

Country	Stages	Total
China	Filing, Examination, Granting	1575
EPO	Filing, Examination, Granting	11629
Japan	Filing, Examination, Granting	1923
South Korea	Filing, Examination, Granting	1597
USA	Filing, Examination, Granting	4740

Abstract[English] The present invention relates to a treatment process for residue slurry during polycrystalline silicon production. Said treatment process comprises: carrying out solid-liquid separation on a solid-liquid mixed phase obtained after gas-liquid separation of residue slurry, so as to obtain a solid phase and a liquid phase; drying the solid phase, and performing acidic hydrolysis, filter pressing, drying and screening to obtain a solid phase containing silicon powder; reacting the solid phase containing silicon powder with hydrogen chloride, cooling same and recovering a cooled liquid phase; first performing light component removal on the liquid phase to recover trichlorosilane and silicon tetrachloride; then adding an auxiliary agent to the liquid phase obtained after the light component removal and reacting same; separating a liquid phase containing pentachlorodisilane, hexachlorodisilane, pentachlorodisiloxane and hexachlorodisiloxane; and subjecting the liquid phase obtained after the separation and hydrogen chloride to a cracking reaction, so as to generate trichlorosilane and silicon tetrachloride, and recovering same. The treatment process of the present invention can improve the material classified treatment capability and the amount of recovered materials of the residue slurry process.[French] La présente invention concerne un procédé de traitement de suspension de résidus au cours d'une production de silicium polycristallin. Ledit procédé de traitement comprend les étapes consistant à : réaliser une séparation solide-liquide d'une phase mixte solide-liquide obtenue après une séparation gaz-liquide de la suspension de résidus, de façon à obtenir une phase solide et une phase liquide; sécher la phase solide et réaliser une hydrolyse acide, une filtration par pressage, un séchage et un criblage pour obtenir une phase solide contenant de la poudre de silicium; faire réagir la phase solide contenant de la poudre de silicium avec du chlorure d'hydrogène, refroidir celle-ci et récupérer une phase liquide refroidie; premièrement, effectuer une élimination de composants légers de la phase liquide pour récupérer du trichlorosilane et du tétrachlorure de silicium; puis ajouter un agent auxiliaire à la phase liquide obtenue après l'élimination des composants légers et faire réagir celui-ci; séparer une phase liquide contenant du pentachlorodisilane, de l'hexachlorodisilane, du pentachlorodisiloxane et de l'hexachlorodisiloxane; et soumettre la phase liquide obtenue après la séparation et le chlorure d'hydrogène à une réaction de craquage, de façon à générer du trichlorosilane et du tétrachlorure de silicium, et à récupérer ces derniers. Le procédé de traitement de la présente invention peut améliorer la capacité de traitement de matériaux classifiés et la quantité de matériaux récupérés du procédé de suspension de résidus.[Chinese] 本发明为一种多晶硅生产中渣浆的处理工艺。一种多晶硅生产中渣浆的处理工艺，包括：对渣浆气液分离后的固液混合相进行固液分离，得固相和液相；所述的固相经干燥、酸性水解、压滤、烘干、筛分后，得含硅粉的固相；将所述的含硅粉的固相与氯化氢发生反应后，冷却，回收冷却后的液相；所述的液相先通过除轻处理回收三氯氢硅和四氯化硅；再向除轻处理后的液相加入助剂反应后，分离出含有五氯乙硅烷、六氯乙硅烷、五氯乙硅氧烷、六氯乙硅氧烷的液相；再将所述的分离后的液相与氯化氢进行裂解反应，生成三氯氢硅、四氯化硅并回收。本发明所述的一种多晶硅生产中渣浆的处理工艺，可提升渣浆工艺的物料分类处理能力及物料回收利用的量。

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Non-Commercial Organization	*
Micro Entity	*
Small Entity, USA	*
Micro Entity, USA	*
Entry into National Phase under	Chapter I *
Patent Delivery	Send the Letters Patent by Courier *
Translation

WO2025218602 - TREATMENT PROCESS FOR RESIDUE SLURRY DURING POLYCRYSTALLINE SILICON PRODUCTION

Quotation for National Phase entry

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