WO2026020335 - ARRAY SUBSTRATE, DISPLAY APPARATUS, AND METHOD OF FABRICATING ARRAY SUBSTRATE
National phase entry is expected:
Publication Number
WO/2026/020335
Publication Date
29.01.2026
International Application No.
PCT/CN2024/107133
International Filing Date
24.07.2024
Title **
[English]
ARRAY SUBSTRATE, DISPLAY APPARATUS, AND METHOD OF FABRICATING ARRAY SUBSTRATE
[French]
SUBSTRAT MATRICIEL, APPAREIL D'AFFICHAGE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SUBSTRAT MATRICIEL
Applicants **
BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD.
YUNNAN INVENSIGHT OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD.
BEIJING BOE TECHNOLOGY DEVELOPMENT CO., LTD.
Inventors
LI, Kunjiao
LI, Ruquan
LI, Xiaonan
LIU, Wei
ZHANG, Dacheng
SU, Dongdong
LIN, Jiahong
SHEN, Xiaobin
FENG, Weixiong
FENG, Bingming
WANG, Jixing
ZOU, Jianming
DUAN, Xiaoxiao
LEE, Yuhao
WU, Cao
ZHANG, Fushuang
WEN, Lingang
WANG, Huanhuan
YAN, Junkai
LIU, Guoqiang
ZHAO, Liming
Application details
| Total Number of Claims/PCT | * |
| Number of Independent Claims | * |
| Number of Priorities | * |
| Number of Multi-Dependent Claims | * |
| Number of Drawings | * |
| Pages for Publication | * |
| Number of Pages with Drawings | * |
| Pages of Specification | * |
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| Number of Office Actions | * |
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International Searching Authority |
CNIPA
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| Recordal of a Change of the Applicant's Name/Address |
Change of Applicant's Name and Address
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| Type of Assignment |
The Standard Agent's Assignment
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| Applicant's Legal Status |
Legal Entity
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| Entry into National Phase under |
Chapter I
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| Patent Delivery |
Send the Letters Patent by Courier
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| Translation |
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Quotation for National Phase entry
| Country | Stages | Total | |
|---|---|---|---|
| China | Filing, Examination, Granting | 1927 | |
| EPO | Filing, Examination, Granting | 14641 | |
| Japan | Filing, Examination, Granting | 2337 | |
| South Korea | Filing, Examination, Granting | 2340 | |
| USA | Filing, Examination, Granting | 4740 |
Total:
25,985
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Abstract[English]
An array substrate includes a first subpixel, a second subpixel, and a third subpixel. The first subpixel includes a first reflective electrode, a first electrode, and a first microcavity. The second subpixel includes a second reflective electrode, a second electrode, and a second microcavity. The third subpixel includes a third reflective electrode, a third electrode, and a third microcavity. A height of a surface of the first reflective electrode relative to a surface of the base substrate is substantially same as a height of a surface of the second reflective electrode relative to the surface of the base substrate. A height of a surface of the second electrode exposed to a second subpixel aperture relative to the surface of the base substrate is substantially same as a height of a surface of the third electrode exposed to a third subpixel aperture relative to the surface of the base substrate.[French]
Un substrat matriciel comprend un premier sous-pixel, un deuxième sous-pixel et un troisième sous-pixel. Le premier sous-pixel comprend une première électrode réfléchissante, une première électrode et une première microcavité. Le deuxième sous-pixel comprend une deuxième électrode réfléchissante, une deuxième électrode et une deuxième microcavité. Le troisième sous-pixel comprend une troisième électrode réfléchissante, une troisième électrode et une troisième microcavité. La hauteur d'une surface de la première électrode réfléchissante par rapport à une surface du substrat de base est sensiblement la même que la hauteur d'une surface de la seconde électrode réfléchissante par rapport à la surface du substrat de base. La hauteur d'une surface de la deuxième électrode exposée à l'ouverture du deuxième sous-pixel par rapport à la surface du substrat de base est sensiblement la même que la hauteur d'une surface de la troisième électrode exposée à l'ouverture du troisième sous-pixel par rapport à la surface du substrat de base.